等離子清洗機(jī)與常規(guī)濕式清洗比較的主要優(yōu)點(diǎn)是：

①將氧作為清洗劑，它價(jià)格低也不需要進(jìn)行處理;

②可連續(xù)供應(yīng)新鮮的處理氣體，不存在清洗劑的老化問題;

③封閉室式操作不要求特別的職業(yè)性安全措麓;

④因?yàn)椴恍枰稍铮誓芎牡?span>;

⑤造成的廢料僅僅是少量的象CO2和H2O氣這樣的氣體。

因注意到的很重要的一點(diǎn)是無(wú)任何濺射發(fā)生。有機(jī)物的清洗僅僅由它同活性氧的化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)。碳?xì)浠衔锏逆湻謳撞疥懤m(xù)被破壞，*終形成的CO2和H2O氣體被真空泵抽走。不與處理氣體反應(yīng)的無(wú)機(jī)材料當(dāng)然不會(huì)被清除。等離子設(shè)備中頻，射頻等離子處理機(jī)型；處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉(zhuǎn)鼓等真空等離子處理設(shè)備和噴射、準(zhǔn)輝光、隧道、水平線多種常壓等離子處理設(shè)備；
等離子處理機(jī)具有高穩(wěn)定性、高性價(jià)比、高均勻性等諸多優(yōu)點(diǎn)。
特色鮮明的處理腔體形狀和電極結(jié)構(gòu)可以滿足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。
低溫等離子體表面處理設(shè)備、水平式低溫等離子體表面處理設(shè)備、卷對(duì)卷式低溫等離子體表面處理設(shè)備、以及大氣壓輝光放電表面處理設(shè)備等離子處理
等離子又名電漿，是由帶正電的正粒子、負(fù)粒子（其中包括正離子，負(fù)離子、電子、自由基和各類活性基團(tuán)等）組成的集合體，其中正電荷和負(fù)電荷電量相等故稱等離子體，是除固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之外物質(zhì)存在的第四態(tài)—等離子態(tài)。
等離子表面處理器由等離子發(fā)生器，氣體輸送管路及等離子噴頭等部分組成，等離子發(fā)生器產(chǎn)生高壓高頻能量在噴嘴鋼管中被激活和被控制的輝光放電中產(chǎn)生低溫等離子體，借助壓縮空氣將等離子噴向工件表面，當(dāng)?shù)入x子體和被處理物體表面相遇時(shí)，產(chǎn)生了物體變化和化學(xué)反應(yīng)。表面得到了清潔，去除了碳化氫類污物，如油脂，輔助添加劑等，或產(chǎn)生刻蝕而粗糙，或形成致密的交聯(lián)層，或引入含氧極性基團(tuán)(羥基、羧基)，這些基團(tuán)對(duì)各類涂敷材料具有促進(jìn)其粘合的作用，在粘合和油漆應(yīng)用時(shí)得到了優(yōu)化。在同樣效果下，應(yīng)用等離子體處理表面可以得到非常薄的高張力涂層表面，有利于粘結(jié)、涂覆和印刷。不需其他機(jī)器、化學(xué)處理等強(qiáng)烈作用成份來(lái)增加粘合性。