等離子設(shè)備中頻，射頻等離子處理機(jī)型；處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉(zhuǎn)鼓等真空等離子處理設(shè)備和噴射、準(zhǔn)輝光、隧道、水平線多種常壓等離子處理設(shè)備；
等離子處理機(jī)具有高穩(wěn)定性、高性價(jià)比、高均勻性等諸多優(yōu)點(diǎn)。
特色鮮明的處理腔體形狀和電極結(jié)構(gòu)可以滿足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。
低溫等離子體表面處理設(shè)備、水平式低溫等離子體表面處理設(shè)備、卷對卷式低溫等離子體表面處理設(shè)備、以及大氣壓輝光放電表面處理設(shè)備等離子清洗機(jī)被廣泛使用的原因：

1、環(huán)保
等離子體起到作用的過程時氣到固體的相干式的，過程中不消耗水資源，也不需要添加化學(xué)藥劑，對于周圍的環(huán)境沒有污染。
2、廣泛性
使用等離子清洗機(jī)一般是不分處理對象的基本材料類型，都可以進(jìn)行處理，對于金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，例如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺甚至是聚四氟乙烯等等都可以得到很好的處理，并且可以實(shí)現(xiàn)整體以及局部以及負(fù)責(zé)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行清洗處理。
3、功能性強(qiáng)
等離子清洗機(jī)不僅涉及道路高分子材料淺表面，可以在保持材料自身特性的同時，有賦予了一種或者多種的新功能。
4、溫度低
等離子清洗機(jī)接近常溫，特別適合用于高分子材料，比使用電暈已經(jīng)火焰的方法有很長的保存時間和比較的表面處理張力。
5、成本低
等離子處理裝置簡單，易于操作和維修，可以連續(xù)的運(yùn)行，往往幾瓶的等離子氣體就可以代替數(shù)千公斤的清洗液，因此清洗的成本會大大的降低與濕法清洗。
6、全稱可控工藝
等離子清洗機(jī)幾乎所有的參數(shù)都可以由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進(jìn)行質(zhì)量控制。
7、處理物的幾何形狀無限制

使用等等離子清洗機(jī)處理的物體，其或大或小，形狀簡單或者復(fù)雜，部件或紡織品都可以進(jìn)行處理。一、等離子處理器清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序?？梢哉麄€工藝流水線的處理效率;


二、等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;


三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在全球高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;


        四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果像是甚至更好;


        五、使用等離子清洗機(jī)，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn);


        六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達(dá)到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過程不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;


七、使用等離子清洗，避免了對清洗液的運(yùn)輸、存儲、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;


八、等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗;


九、在完成清洗去污的同時，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。